産業ウオッチャ〜激化する露光装置トップ争い　ニコンはＴＥＬと提携　ＡＳＭＬは日本に足がかり
日経マイクロデバイス　第187号　2001.1.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第187号（2001.1.1）
ページ数	1ページ　（全796字）
形式	PDFファイル形式　（25kb）
雑誌掲載位置	19ページ目

日本製造装置露光装置市場　露光装置トップを争うニコンとオランダＡＳＭＬ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社がシェア拡大に向けた発表を相次いで行った。　ニコンは，東京エレクトロン（ＴＥＬ）と露光技術の評価設備の共用に関して提携した。露光装置と塗布・現像装置の評価に関し，これまでは新製品への迅速な対応や最適なサポートが難しいという問題があった。両社が設備を共用することで問題を解決していく。２００１年上期中に装置…