技術レター［ＬＳＩ製造］〜２０００年版ＩＴＲＳ 一層の微細化前倒しを 米国勢が提案
日経マイクロデバイス 第183号 2000.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第183号（2000.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全349字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （25kb） |
| 雑誌掲載位置 | 70ページ目 |
微細化ＬＳＩプロセス露光技術 ＬＳＩ技術の国際ロードマップ「Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｒｏａｄｍａｐ ｆｏｒ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ（ＩＴＲＳ）」の２０００年版で，米国勢が一層の微細化前倒しを提案したことが明らかになった。ＩＴＲＳは毎年改定して年末に発表する。現在は２０００年度版の策定中であり，１９９９年版は２００２年になっていた０．１３μｍプロセスの実用化時期を，２…
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