トピックス・テクノロジ 〜MEMS 2001参加報告(上)
日経ものづくり 第558号 2001.3.1
掲載誌 | 日経ものづくり 第558号(2001.3.1) |
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ページ数 | 1ページ (全1045字) |
形式 | PDFファイル形式 (211kb) |
雑誌掲載位置 | 73ページ目 |
IEEEが主催した「MEMS 2001」がスイスで1月に開催された。興味を持った発表について記す。3月号では流体制御の分野から1論文を取り上げる。 大日本印刷の中央研究所(千葉県柏市)の電子システム研究所と東京大学生産技術研究所教授藤田博之氏らのグループは,マイクロノズルを使って微細パターンを描く技術を発表した(図1)。カラーフィルタにインク(顔料分散レジスト)を成膜する用途などを想定している。…
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